Log In
Browsing by Author Kolenatý, David
Jump to:
0-9
A
B
C
D
E
F
G
H
I
J
K
L
M
N
O
P
Q
R
S
T
U
V
W
X
Y
Z
or enter first few letters:
Sort by:
title
issue date
submit date
In order:
Ascending
Descending
Results/Page
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
70
75
80
85
90
95
100
Authors/Record:
All
1
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
Showing results 2 to 10 of 10
< previous
Issue Date
Title
Author(s)
2022
Electron-positron pairs and radioactive nuclei production by irradiation of high-Z target with γ-photon flash generated by an ultra-intense laser in the λ3 regime
Kolenatý, David
;
Hadjisolomou, Prokopis
;
Versaci, Roberto
;
Jeong, Tae Moon
;
Valenta, Petr
;
Olšovcová, Veronika
;
Bulanov, Sergei Vladimirovich
2020
High‑performance thermochromic VO2‑based coatings with a low transition temperature deposited on glass by a scalable technique
Kolenatý, David
;
Vlček, Jaroslav
;
Bárta, Tomáš
;
Rezek, Jiří
;
Houška, Jiří
;
Haviar, Stanislav
2019
Ion-flux characteristics during low-temperature (300 °C) deposition of thermochromic VO2 films using controlled reactive HiPIMS
Vlček, Jaroslav
;
Kolenatý, David
;
Kozák, Tomáš
;
Houška, Jiří
;
Čapek, Jiří
;
Kos, Šimon
2018
Nízkoteplotní depozice vysoce funkčních termochromických povlaků na bázi VO2 použitím pulzního reaktivního magnetronového naprašování
Kolenatý, David
2016
Reactive high-power impulse magnetron sputtering of thermochromic VO2 films on silicon substrate at low deposition temperatures
Kolenatý, David
;
Houška, Jiří
;
Rezek, Jiří
;
Čerstvý, Radomír
;
Vlček, Jaroslav
2012
Reaktivní depozice vrstev pomocí vysokovýkonového pulzního magnetronového zdroje
Kolenatý, David
2014
Reaktivní vysokovýkonová pulzní magnetronová depozice vrstev HfO2
Kolenatý, David
2014
Reaktivní vysokovýkonová pulzní magnetronová depozice vrstev HfO2
Kolenatý, David
2019
Significant improvement of the performance of ZrO2/V1–xWxO2/ZrO2 thermochromic coatings by utilizing a second-order interference
Houška, Jiří
;
Kolenatý, David
;
Vlček, Jaroslav
;
Bárta, Tomáš
;
Rezek, Jiří
;
Čerstvý, Radomír