Prohlížení dle Autor Kozák, Tomáš

Přejít na: 0-9 A B C D E F G H I J K L M N O P Q R S T U V W X Y Z
nebo zadejte několik prvních písmen:  
Zobrazují se výsledky 6 až 25 z 29 < předchozí   další >
Datum vydáníNázevAutor
2021High deposition rate films prepared by reactive HiPIMSMareš, Pavel; Dubau, M.; Polášek, Jan; Mates, Tomáš; Kozák, Tomáš; Vyskočil, Jiří
2023High-defined and size-selective deposition of nanoparticles by their manipulation in an electrostatic fieldČurda, Pavel; Kaftan, David; Kozák, Tomáš; Kumar, Sanjay; Sezemský, Petr; Straňák, Vítězslav
2019High-rate reactive high-power impulse magnetron sputtering of transparent conductive Al-doped ZnO thin films prepared at ambient temperatureRezek, Jiří; Novák, Petr; Houška, Jiří; Pajdarová, Andrea Dagmar; Kozák, Tomáš
2018Identifikace elektrických vlastností podle tloušťky v vrstvě oxidu zinečnatého dopovaného hliníkem naprašovaného při 100 ° CNovák, Petr; Očenášek, Jan; Kozák, Tomáš; Savková, Jarmila
2022The importance of discharge voltage in DC magnetron sputtering for energy of sputtered and backscattered atoms on the substrate: Monte-Carlo simulationsFarhadizadeh, Alireza; Kozák, Tomáš
2018Influence of oxygen on the resistivity of co-sputtered transparent AZO filmsNovák, Petr; Kozák, Tomáš; Šutta, Pavol; Kolega, Michal; Bláhová, Olga
2019The influence of positive pulses on HiPIMS deposition of hard DLC coatingsSantiago, J.A.; Fernández-Martínez, I.; Kozák, Tomáš; Čapek, Jiří; Wennberg, A.; Molina-Aldareguia, J.M.; Bellido-González, V.; González-Arrabal, R.; Monclús, M.A.
2023Investigation of carrier transport in ZnO and ZnO:Al thin films sputtered at different oxygen conditionsNovák, Petr; Nedvědová, Lucie; Kozák, Tomáš; Šotová, Petra; Bláhová, Olga; Jansa, Zdeněk; Medlín, Rostislav; Netrvalová, Marie; Minár, Jan
2020Ion energy distributions at substrate in bipolar HiPIMS: effect of positive pulse delay, length and amplitudeKozák, Tomáš; Pajdarová, Andrea Dagmar; Čada, Martin; Hubička, Zdeněk; Mareš, Pavel; Čapek, Jiří
2019Ion-flux characteristics during low-temperature (300 °C) deposition of thermochromic VO2 films using controlled reactive HiPIMSVlček, Jaroslav; Kolenatý, David; Kozák, Tomáš; Houška, Jiří; Čapek, Jiří; Kos, Šimon
2013Modelování vysokovýkonových pulzních magnetronových výbojů pro depozici vrstevKozák, Tomáš
2016Monte Carlo simulace napouštění reaktivního plynu pro reaktivní magnetronové naprašování vrstevŠula, Michal; Kozák, Tomáš
2020Nanoindentation and microbending analyses of glassy and crystalline Zr(–Hf)–Cu thin-film alloysHaviar, Stanislav; Kozák, Tomáš; Meindlhumer, Michael; Zítek, Michal; Opatová, Kateřina; Kučerová, Ludmila; Keckes, Jozef; Zeman, Petr
2022On density distribution of Ti atom and ion ground states near the target in HiPIMS discharge using cavity ring-down spectroscopy and laser induced fluorescencePajdarová, Andrea Dagmar; Kozák, Tomáš; Čapek, Jiří; Tölg, Tomáš
2023Particle-based simulation of atom and ion transport in HiPIMS: effect of the plasma potential distribution on the ionized flux fractionKozák, Tomáš
2021Phase formation and mechanical properties of reactively and non-reactively sputtered Ti-B-N hard coatingsHahn, R.; Tymoszuk, A.; Wojcik, T.; Kirnbauer, A.; Kozák, Tomáš; Čapek, Jiří; Sauer, M.; Foelske, A.; Hunold, O.; Polcik, P.; Mayrhofer, P.H.; Riedl, H.
2020Plasma parameters in positive voltage pulses of bipolar HiPIMS discharge determined by Langmuir probe with a sub-microsecond time resolutionPajdarová, Andrea Dagmar; Kozák, Tomáš; Hubička, Zdeněk; Čada, Martin; Mareš, Pavel; Čapek, Jiří
2021Reactive HiPIMS deposition of Al-oxide thin films using W-alloyed Al targetsKagerer, S.; Zauner, L.; Wojcik, T.; Koloszvári, S.; Kozák, Tomáš; Čapek, Jiří; Zeman, Petr; Riedl, H.; Mayrhofer, P.H.
2015Simulace napouštění reaktivního plynu do vakuové komoryKrejčová, Milada; Kozák, Tomáš
2021Synergy of experiment and model for reactive HiPIMS: effect of discharge parameters on WOx composition and deposition rateRezek, Jiří; Kozák, Tomáš; Kumar, Nirmal; Haviar, Stanislav