Název: | Comparison of Waffle and standard gate pattern base on specific on-resistance |
Autoři: | Vacula, Patrik Husák, Miroslav |
Citace zdrojového dokumentu: | Electroscope. 2014, č. 3, EDS 2014. |
Datum vydání: | 2014 |
Nakladatel: | Západočeská univerzita v Plzni, Fakulta elektrotechnická |
Typ dokumentu: | článek article |
URI: | http://147.228.94.30/images/PDF/Rocnik2014/Cislo3_2014/r8c3c7.pdf http://hdl.handle.net/11025/11823 |
ISSN: | 1802-4564 |
Klíčová slova: | struktury MOS;tranzistory MOS |
Klíčová slova v dalším jazyce: | MOS structures;MOS transistors |
Abstrakt v dalším jazyce: | The main goal of this work is to compare the different Waffle MOS structures as function between main dimensions and channel resistance (specific on-resistance). Even if Waffle MOS structure is so general that it is independent on dedicated CMOS process in fact constrains coming from specific CMOS process design rules has main influence on final Waffle MOS shape and final required area. Comparison describing how dimensions of Waffle MOS have influence on channel resistance would be proposed. Due to non-conventional gate geometry of the Waffle MOS transistor compare to the fingers structure, the channel W/L ratio calculation is not trivial and conformal Schwarz-Christoffel Transformation mapping was used. |
Práva: | Copyright © 2014 Electroscope. All Rights Reserved. |
Vyskytuje se v kolekcích: | Číslo 3 (2014) Číslo 3 (2014) |
Soubory připojené k záznamu:
Soubor | Popis | Velikost | Formát | |
---|---|---|---|---|
Vacula.pdf | Plný text | 637,42 kB | Adobe PDF | Zobrazit/otevřít |
Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam:
http://hdl.handle.net/11025/11823
Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.