| Název: | Kombinovaná depozice vrstev Ta-O-N a kovových klastrů Cu |
| Další názvy: | Combined deposition of Ta-O-N coatings and clusters of copper |
| Autoři: | Batková, Šárka Čapek Jiří, Ing. Ph.D. |
| Vedoucí práce/školitel: | Čapek Jiří, Ing. Ph.D. |
| Oponent: | Soukup Zbyněk, Ing. Ph.D. |
| Datum vydání: | 2016 |
| Nakladatel: | Západočeská univerzita v Plzni |
| Typ dokumentu: | diplomová práce |
| URI: | http://hdl.handle.net/11025/23701 |
| Klíčová slova: | hipims;ta-o-n;fotokatalytický rozklad vody;nanoklastry |
| Klíčová slova v dalším jazyce: | hipims;ta-o-n;photocatalytic water splitting;nanoclusters |
| Abstrakt: | Tato práce se zabývá kombinovanou depozicí vrstev na bázi Ta-O-N a nanoklastrů mědi. Vrstvy byly připraveny metodou reaktivní vysokovýkonové pulzní magnetronové depozice při průměrné výkonové hustotě v pulzu 1000 W/cm2. Reaktivní plyny byly do komory přiváděny pomocí keramické trubičky vzdálené 7 mm od terče pro zvýšení stupně disociace reaktivní směsi (zejména dusíku). Byla demonstrována možnost plynulého řízení podílu dusíku ve vrstvách a tím pádem i úpravy vlastností vrstev, jako je např. snížení šířky zakázaného pásu z hodnoty 4,2 eV na 1,7 eV. Dosažené vlastnosti připravených vrstev jsou slibné pro potenciální využití tohoto tenkovrstvého materiálu pro fotokatalyticý rozklad vody. Nanoklastry byly připravovány pomocí zdroje klastrů typu "gas aggregation source". Nanoklastry byly nejprve deponovány na křemíkové substráty pro průtoky argonu do agregační komory zdroje klastrů 80, 100, 120, 140 a 160 sccm. Nebyl pozorován žádný výrazný trend velikosti a četnosti nanoklastrů. Následně byla provedena kombinovaná depozice vrstvy Ta-O-N a nanoklastrů mědi na povrch vrstvy. |
| Abstrakt v dalším jazyce: | This thesis deals with combined deposition of Ta-O-N coatings and nanoclusters of copper. The coatings were deposited using reactive high power impulse magnetron sputtering at an average target power density in a pulse of 1000 W/cm2. A ceramic tube placed 7 mm from the target was used for admitting the reactive gases into the vacuum chamber in order to increase the degree of dissociation of the reactive gas mixture (especially nitrogen). This approach allowed us to control the amount of nitrogen in the coatings and also to utilize the coating properties. In particular, the band gap width of the coatings was reduced from 4.1 to 1.7 eV, which makes the coatings potential candidates for application as visible-light driven photocatalysts. The nanoclusters were deposited using gas aggregation source. The nanoclusters were first deposited onto silicon substrates at argon flow rates of 80, 100, 120, 140 and 160 sccm. No significant trend in the nanocluster size and amount was observed. Finally, a combined deposition of nanoclusters onto a Ta-O-N coating was performed. |
| Práva: | Plný text práce je přístupný bez omezení. |
| Vyskytuje se v kolekcích: | Diplomové práce / Theses (KFY) |
Soubory připojené k záznamu:
| Soubor | Popis | Velikost | Formát | |
|---|---|---|---|---|
| Batkova_diplomova_prace.pdf | Plný text práce | 1,95 MB | Adobe PDF | Zobrazit/otevřít |
| Batkova_vedouci.pdf | Posudek vedoucího práce | 526 kB | Adobe PDF | Zobrazit/otevřít |
| Batkova_oponent.pdf | Posudek oponenta práce | 577,32 kB | Adobe PDF | Zobrazit/otevřít |
| Batkova_obhajoba.pdf | Průběh obhajoby práce | 242,07 kB | Adobe PDF | Zobrazit/otevřít |
Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam:
http://hdl.handle.net/11025/23701Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.