| Název: | Reaktivní depozice vrstev pomocí vysokovýkonového pulzního magnetronového zdroje |
| Další názvy: | Reactive High-Power Impulsed Magnetron Sputtering |
| Autoři: | Kolenatý, David |
| Vedoucí práce/školitel: | Vlček, Jaroslav |
| Oponent: | Rusňák, Karel |
| Datum vydání: | 2012 |
| Nakladatel: | Západočeská univerzita v Plzni |
| Typ dokumentu: | bakalářská práce |
| URI: | http://hdl.handle.net/11025/3716 |
| Klíčová slova: | reaktivní magnetronové naprašování;HiPIMS;tenké vrstvy oxidů zirkonu a tantalu |
| Klíčová slova v dalším jazyce: | reactive High-Power Impulsed Magnetron Sputtering (HiPIMS);thin oxide films of zirconia and tantalum |
| Abstrakt: | Tato bakalářská práce je zaměřena na reaktivní depozici vrstev pomocí vysokovýkonového pulzního magnetronového zdroje HiPIMS. Vrstvy byly připravovány v atmosféře argonu a kyslíku za konstantního celkového tlaku 2 Pa. Zirkoniový terč o průměru 100 mm s aplikovaným tantalovým kroužkem, zasahujícím do erozivní zóny terče, byl zatěžován konstantní výkonovou hustotou v periodě 15 W/cm2. Opakovací frekvence pulzů byla 500 Hz a střída 2,5% a 10%. Proměnnými parametry depozičního procesu byla délka pulzu 50 a 200 mikrosekund a šířka tantalového kroužku 0;2;3;5;7;10;20 mm. U takto připravených vrstev bylo provedeno měření depoziční rychlosti, tvrdosti a vnitřního pnutí, analýza fázového složení RTG difrakcí, elipsometrické měření extinkčního koeficientu a indexu lomu. |
| Abstrakt v dalším jazyce: | This thesis is aimed at reactive High-Power Impulsed Magnetron Sputtering (HiPIMS). Thin films were prepared in oxygen and argon atmosphere, at working pressure 2 Pa. A zirconium target of 100 mm in diameter with applied tantalum ring to erosion area was loaded by average power density in period 15 W/cm2. Repetition frequency of pulse was 500 Hz and pulse duration (duty cycle) was 2,5% and 10%. Variable parameters of deposition were pulse length 50 a 200 microsecond and width of tantalum ring 0;2;3;5;7;10;20 mm. At films created in this way were measured deposition rate, microhardness, stress, structure, extinction coefficient and refractive index. |
| Práva: | Plný text práce je přístupný bez omezení. |
| Vyskytuje se v kolekcích: | Bakalářské práce / Bachelor´s works (KFY) |
Soubory připojené k záznamu:
| Soubor | Popis | Velikost | Formát | |
|---|---|---|---|---|
| Kolenaty David - Reaktivni depozice vrstev pomoci vysokovykonoveho pulzniho magnetronoveho zdroje.pdf | Plný text práce | 1,51 MB | Adobe PDF | Zobrazit/otevřít |
| Kolenaty_vedouci.pdf | Posudek vedoucího práce | 300,68 kB | Adobe PDF | Zobrazit/otevřít |
| Kolenaty_oponent.pdf | Posudek oponenta práce | 520,33 kB | Adobe PDF | Zobrazit/otevřít |
| Kolenaty_otazky.pdf | Průběh obhajoby práce | 200,06 kB | Adobe PDF | Zobrazit/otevřít |
Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam:
http://hdl.handle.net/11025/3716Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.