Hledat


Aktuální filtry:

Začít nové hledání
Přidat filtry:

Filtry použijte k upřesnění výsledků hledání.


Výsledky 1-7 z 7.
  • předchozí
  • 1
  • další
Odpovídající záznamy:
Datum vydáníNázevAutor
2020Extraordinary high-temperature behavior of electrically conductive Hf7B23Si22C6N40 ceramic filmZeman, Petr; Zuzjaková, Šárka; Čerstvý, Radomír; Houška, Jiří; Shen, Yi; Todt, Juraj; Jiang, Jiechao; Daniel, Rostislav; Keckes, Jozef; Meletis, Efstathios I.; Vlček, Jaroslav
2020Distribution of O atoms on partially oxidized metal targets, and the consequences for reactive sputtering of individual metal oxidesHouška, Jiří; Kozák, Tomáš
2020Bixbyite-Ta2N2O film prepared by HiPIMS and postdeposition annealing: Structure and propertiesČapek, Jiří; Batková, Šárka; Matas, Martin; Kos, Šimon; Kozák, Tomáš; Haviar, Stanislav; Houška, Jiří; Schusser, Jakub; Minár, Jan; Dvořák, Filip; Zeman, Petr
2020Tunable composition and properties of Al–O–N films prepared by reactive deep oscillation magnetron sputteringBelosludtsev, Alexander; Vlček, Jaroslav; Houška, Jiří; Haviar, Stanislav; Čerstvý, Radomír
2020Self-organization of vapor-deposited polyolefins at the solid/vacuum interfaceChoukourov, Andrei; Melnichuk, Iurii; Gordeev, Ivan; Nikitin, Daniil; Tafiichuk, Renata; Pleskunov, Pavel; Hanuš, Jan; Houška, Jiří; Kretková, Tereza; Dopita, Milan
2020Pulsed Magnetron Sputtering of Strongly Thermochromic VO2-Based Coatings with a Transition Temperature of 22 °C onto Ultrathin Flexible GlassBárta, Tomáš; Vlček, Jaroslav; Houška, Jiří; Haviar, Stanislav; Čerstvý, Radomír; Szelwicka, Jolanta; Fahland, Matthias; Fahlteich, John
2020Maximum achievable N content in atom-by-atom growth of amorphous Si‒C‒NHouška, Jiří