Full metadata record
DC poleHodnotaJazyk
dc.contributor.authorSkácel, Josef
dc.contributor.authorKolařík, Jan
dc.contributor.authorSzendiuch, Ivan
dc.contributor.editorPihera, Josef
dc.contributor.editorSteiner, František
dc.date.accessioned2018-01-04T08:25:45Z
dc.date.available2018-01-04T08:25:45Z
dc.date.issued2017
dc.identifier.citationElectroscope. 2017, č. 2.cs
dc.identifier.issn1802-4564
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11025/26595
dc.description.abstractTento výzkum se zabývá tlustovrstvovou technologií. Především je tato práce zaměřena na dostavování hodnoty odporu tlustovrstvového rezistoru. Hlavním zájmem bylo použití simulačního program pro predikci hodnoty výsledného rezistoru. Laserové dostavování se používá k přesnému dostavení tlustovrstvých rezistorů a tato oblast je vhodná pro použití simulačních programů. Další oblast zájmu byla z pohledu výkonového zatížení jednotlivých řezů a možnosti jejich měření. V tomto článku bylo vybráno šest řezů k porovnání výkonového zatížení a korelaci se simulačním programem. Jako simulační nástroj byl vybrán ANSYS Workbench.cs
dc.format3 s.cs
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.language.isoenen
dc.publisherZápadočeská univerzita v Plzni, Fakulta elektrotechnickács
dc.relation.ispartofseriesElectroscopecs
dc.rightsCopyright © 2007-2010 Electroscope. All Rights Reserved.en
dc.subjecttlustovrstvá technologiecs
dc.subjectodpor tlustovrstvého rezistorucs
dc.subjectsimulacecs
dc.subjectvýkonové zatížení řezůcs
dc.titlePrediction of the thick film resistor trimmingen
dc.typečlánekcs
dc.typearticleen
dc.rights.accessopenAccessen
dc.type.versionpublishedVersionen
dc.description.abstract-translatedThis research deals with the issue of the thick-film technology. This work is focused especially on the trimming value of resistance thick-film resistors. The main aim is to use simulation program for resistance value prediction. The laser trimming is used to ensure accurate values of thick film resistors. Another area of interest is the power load of individual cuts and the possibilities of measuring them. In this paper, six cuts were selected to compare power load and correlation with simulations from the Ansys Workbench program was done.en
dc.subject.translatedthick-film technologyen
dc.subject.translatedresistance thick-film resistorsen
dc.subject.translatedsimulationen
dc.subject.translatedpower load of cutsen
dc.type.statusPeer-revieweden
Vyskytuje se v kolekcích:Číslo 2 (2017) - IMAPS flash Conference 2017
Číslo 2 (2017) - IMAPS flash Conference 2017

Soubory připojené k záznamu:
Soubor Popis VelikostFormát 
Skacel.pdfPlný text555,21 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Zobrazit minimální záznam Zobrazit statistiky


Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam: http://hdl.handle.net/11025/26595

Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.

hledání
navigace
  1. DSpace at University of West Bohemia
  2. Publikace ZČU / UWB Publications
  3. Časopisy ZČU / UWB Journals
  4. Electroscope
  5. Ročník 2017
  6. Číslo 2 (2017) - IMAPS flash Conference 2017