Název: Microstructure evolution in amorphous Hf–B–Si–C–N high temperature resistant coatings after annealing to 1500 °C in air
Další názvy: Vývoj mikrostruktury amorfních vrstev Hf–B–Si–C–N s vysokoteplotní odolností po vyžíhání do 1500 °C ve vzduchu
Autoři: Shen, Yi
Jiang, Jiechao
Zeman, Petr
Šímová, Veronika
Vlček, Jaroslav
Meletis, Efstathios I.
Citace zdrojového dokumentu: SHEN, Y., JIANG, J., ZEMAN, P., ŠÍMOVÁ, V., VLČEK, J., MELETIS, E. I. Microstructure evolution in amorphous Hf–B–Si–C–N high temperature resistant coatings after annealing to 1500 °C in air. Scientific Reports, 2019, roč. 9, č. 5 MAR 2019, s. „3603-1“ - „3603-11“. ISSN 2045-2322.
Datum vydání: 2019
Nakladatel: Nature Publishing Group
Typ dokumentu: článek
article
URI: 2-s2.0-85062584666
http://hdl.handle.net/11025/36060
ISSN: 2045-2322
Klíčová slova: Vrstvy Hf–B–Si–C–N;Pulzní magnetronové naprašování;Vysokoteplotní oxidační odolnost;TEM
Klíčová slova v dalším jazyce: Hf–B–Si–C–N films;Pulsed magnetron sputtering;High-temperature oxidation resistance;TEM
Abstrakt: Amorfní povlaky Hf–B–Si–C–N vykazují velmi vysokou vysokoteplotní oxidační odolnost. V této práci je zkoumán vývoj mikrostruktury povlaků Hf7B23Si22C6N40 a Hf6B21Si19C4N47 vyžíhaných do 1500 °C s cílem pochopit jejich vysokou oxidační odolnost. Vyžíhané povlaky vykazují dvouvrstvou strukturu zahrnující původní nadeponovaný materiál s horní zoxidovanou vrstvou. Mikrostruktura zoxidované vrstvy je v obou případech tvořena nanokrystalky HfO2 rozptýlenými v amorfní matrici na bázi SiOx. V případě povlaku Hf7B23Si22C6N40 zůstává spodní vrstva amorfní, zatímco v případě povlaku Hf6B21Si19C4N47 částečně rekrystalizuje a tvoří nanokrystalky HfB2 a HfN, které jsou oddělené fázemi h-Si3N4 a h-BN. Fáze HfB2 a HfN vytváří sendvičovou koherentní nanostrukturu spojenou přes monovrstvu (111)-Hf. Navzdory rozdílnému složení původních povlaků vykazuje rozhraní dvouvrstvé struktury v obou případech podobnou mikrostrukturu s jemným rozmístěním nanokrystalků HfO2, které jsou obklopeny fází SiO2. Vysokoteplotní oxidační odolnost obou povlaků je přisuzována konkrétnímu vývoji mikrostruktury obsahující nanokrystalky HfO2 zabudované v husté matrici na bázi amorfního SiOx a krystalického SiO2 (křemen) na rozhraní dvouvrstvé struktury, které slouží jako bariéra pro difúzi kyslíku a přestup tepla.
Abstrakt v dalším jazyce: Recently, amorphous Hf–B–Si–C–N coatings found to demonstrate superior high-temperature oxidation resistance. The microstructure evolution of two coatings, Hf7B23Si22C6N40 and Hf6B21Si19C4N47, annealed to 1500 °C in air is investigated to understand their high oxidation resistance. The annealed coatings develop a two-layered structure comprising of the original as-deposited film followed by an oxidized layer. In both films, the oxidized layer possesses the same microstructure with HfO2 nanoparticles dispersed in an amorphous SiOx-based matrix. The bottom layer in the Hf6B21Si19C4N47 coating remains amorphous after annealing while Hf7B23Si22C6N40 recrystallized partially showing a nanocrystalline structure of HfB2 and HfN nanoparticles separated by h-Si3N4 and h-BN boundaries. The HfB2 and HfN nanostructures form a sandwich structure with a HfB2 strip being atomically coherent to HfN skins via (111)-Hf monolayers. In spite of the different bottom layer structure, the oxidized/bottom layer interface of both films was found to exhibit a similar microstructure with a fine distribution of HfO2 nanoparticles surrounded by SiO2 quartz boundaries. The high-temperature oxidation resistance of both films is attributed to the particular evolving microstructure consisting of HfO2 nanoparticles within a dense SiOx-based matrix and quartz SiO2 in front of the oxidized/bottom layer interface acting as a barrier for oxygen and thermal diffusion.
Práva: © Nature Publishing Group
Vyskytuje se v kolekcích:Články / Articles (KFY)
OBD

Soubory připojené k záznamu:
Soubor VelikostFormát 
OBD19_Zeman,Simova_Vlcek_clanek.pdf2,6 MBAdobe PDFZobrazit/otevřít


Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam: http://hdl.handle.net/11025/36060

Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.

hledání
navigace
  1. DSpace at University of West Bohemia
  2. Publikační činnost / Publications
  3. OBD