| Název: | Nanostructured CuWO4/WO3-x films prepared by reactive magnetron sputtering for hydrogen sensing |
| Další názvy: | Nanostrukturní CuWO4/WO3-x dvojvrstvy připravené reaktivním magnetronovým naprašováním užité jako senzory vodíku |
| Autoři: | Kumar, Nirmal Čapek, Jiří Haviar, Stanislav |
| Citace zdrojového dokumentu: | KUMAR, N., ČAPEK, J., HAVIAR, S. Nanostructured CuWO4/WO3-x films prepared by reactive magnetron sputtering for hydrogen sensing. International journal of hydrogen energy, 2020, roč. 45, č. 35, s. 18066-18074. ISSN 0360-3199. |
| Datum vydání: | 2020 |
| Nakladatel: | Elsevier |
| Typ dokumentu: | článek article |
| URI: | 2-s2.0-85085604614 http://hdl.handle.net/11025/39664 |
| ISSN: | 0360-3199 |
| Klíčová slova: | oxid wolframu;wolframit mědi;senzor vodíku;reaktivní magnetronové naprašování |
| Klíčová slova v dalším jazyce: | Tungsten oxide;Copper Tungstate;Hydrogen gas sensor;Reactive magnetron sputtering |
| Abstrakt: | Dvojvrstvy o vysoké čistotě obsahující wolframit mědi (CuWO4) a sub-stechiometrický oxid wolframu (WO3-x) byly připraveny reaktivním naprašováním pomocí originálního dvoukrokového procesu. Jako první byla připravena tenká vrstva oxidu wolframu (DC magnetron, Ar + O2 jako pracovní plyn, kovový W terč). Na tuto vrstvu byla přidána vrstva nesouvislého wolframitu mědi pomocí RF reaktivní depozice z Cu terče. Wolframit na povrchu tvoří větvené ostrůvky. Jejich množství a vzhled se liší podle množství přidané mědi. Byly zkoumány dvojvrstvy s různými tloušťkami vrstev jako konduktometrické senzory vodíku. Nejlepší odezva byla naměřena pro vrstvy s poměrem tlouštěk 5 nm/20 nm. Odezva byla více než osmkrát lepší v porovnání s dvacetinanometrovou vrstvou referenčního WO3-x. Článek obsahuje návrh vysvětlení této změny založený na formování nanometrových n-n heterogenních přechodů. Detailní studie SEM snímků dokumentuje morfologii ostrůvků woframitu. |
| Abstrakt v dalším jazyce: | High-purity films consisting of copper tungstate (CuWO4) and sub-stoichiometric tungsten oxide (WO3-x) were prepared by reactive sputter deposition. An original two-step deposition process was applied for their synthesis. First, a tungsten oxide thin film was deposited by dc magnetron sputtering from a W target in an Ar + O2 gas mixture, afterward, rf sputtering of a Cu target in an Ar + O2 gas mixture was employed to form a discontinuous CuWO4 layer at the top. This results in a formation of nanostructured branched islands of the tungstate. Bilayers with various layer thicknesses were investigated for the sensitivity to hydrogen gas as a conductometric sensor. The sensitivity changes remarkably with the thicknesses of individual layers. The maximum sensitivity was observed for the films with a layer thickness ratio of 5 nm/20 nm. The response was enhanced more than eight times compared to a 20 nm-thick tungsten oxide alone film. An explanation based on the formation of nano-sized n-n junctions is provided. In addition, a microscopy study of the bilayer growth is presented in detail. |
| Práva: | Plný text není přístupný. © Elsevier |
| Vyskytuje se v kolekcích: | Články / Articles (NTIS) Články / Articles (KFY) OBD |
Soubory připojené k záznamu:
| Soubor | Velikost | Formát | |
|---|---|---|---|
| OBD20_Kumar,Capek,Haviar_clanek.pdf | 2,32 MB | Adobe PDF | Zobrazit/otevřít Vyžádat kopii |
Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam:
http://hdl.handle.net/11025/39664Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.