Název: Enhancement of high-temperature oxidation resistance and thermal stability of hard and optically transparent Hf–B–Si–C–N films by Y or Ho addition
Další názvy: Zlepšení vysokoteplotní oxidační odolnosti a teplotní stability tvrdých a opticky transparentních vrstev Hf–B–Si–C–N přidáním Y a Ho
Autoři: Červená, Michaela
Zeman, Petr
Houška, Jiří
Šímová, Veronika
Procházka, Michal
Čerstvý, Radomír
Haviar, Stanislav
Vlček, Jaroslav
Citace zdrojového dokumentu: ČERVENÁ, M. ZEMAN, P. HOUŠKA, J. ŠÍMOVÁ, V. PROCHÁZKA, M. ČERSTVÝ, R. HAVIAR, S. VLČEK, J.Enhancement of high-temperature oxidation resistance and thermal stability of hard and optically transparent Hf–B–Si–C–N films by Y or Ho addition. Journal of non-crystalline solids, 2021, roč. 553, č. 1 FEB 2021, s. „120470-1“-„120470-7“. ISSN 0022-3093.
Datum vydání: 2021
Nakladatel: Elsevier
Typ dokumentu: článek
article
URI: 2-s2.0-85093663900
http://hdl.handle.net/11025/42944
ISSN: 0022-3093
Klíčová slova: Hf–B–Si(–Y/Ho)–C–N;Oxidační odolnost, Teplotní stabilita;Tvrdost;Optické vlastnosti
Klíčová slova v dalším jazyce: Hf–B–Si(–Y/Ho)–C–N;Oxidation resistance;Thermal stability;Hardness;Optical properties
Abstrakt: Byly připraveny tvrdé a opticky transparentní amorfní vrstvy Hf7B10Si32C2N44, Hf6B12Si29Y2C2N45 a Hf5B13Si25Ho3C2N48, u kterých byla následně vyšetřována oxidační odolnost ve vzduchu a teplotní stabilita v inertní atmosféře až do teploty 1600 °C. Byl studován také vývoj jejich struktury, tvrdosti a optických vlastností v závislosti na teplotě. Bylo zjištěno, že přidání Y nebo Ho (2–3 at.%) do vrstev Hf–B–Si–C–N vede ke stabilizaci tetragonální HfO2 fáze ve vrstvě povrchového oxidu. Tloušťka této povrchové oxidové vrstvy byla nejnižší v případě vrstvy s Y. Po žíhání v He nebyla u žádné vrstvy pozorována žádná hmotnostní změna až do 1315 °C a v případě vrstvy Hf6B12Si29Y2C2N45 dokonce až do 1350 °C. Tvrdost této vrstvy vzrostla po ohřevu na 1300 °C z původní hodnoty 22,2 GPa (měřeno po depozici) na 25,9 GPa a tato vrstva zůstala také opticky transparentní i po ohřevu na 1400 °C. Ke krystalizaci amorfní struktury pak došlo při teplotě kolem 1400 °C.
Abstrakt v dalším jazyce: Hard and optically transparent amorphous Hf7B10Si32C2N44, Hf6B12Si29Y2C2N45 and Hf5B13Si25Ho3C2N48 films were prepared and examined for the oxidation resistance in air and thermal stability in inert gasses up to 1600 °C. A thermal evolution of their structure, hardness and optical properties was also studied. An addition of Y or Ho (2–3 at.%) into Hf–B–Si–C–N films leads to a stabilization of tetragonal HfO2 in a surface oxide layer upon oxidation. The thickness of this layer is the lowest for the Y addition. Upon annealing in He, no mass changes are detected up to 1315 °C and this temperature is shifted even to 1350 °C for the Hf6B12Si29Y2C2N45 film. The hardness of this film is enhanced from 22.2 GPa in the as-deposited state to 25.9 GPa after annealing to 1300 °C and the film retains its optical transparency up to 1400 °C. The crystallization of the amorphous structure occurs at around 1400 °C.
Práva: Plný text není přístupný.
© Elsevier
Vyskytuje se v kolekcích:Články / Articles (NTIS)
Články / Articles (KFY)
OBD

Soubory připojené k záznamu:
Soubor VelikostFormát 
OBD21_Kotrlova,Zeman,Houska_clanek.pdf2,33 MBAdobe PDFZobrazit/otevřít  Vyžádat kopii


Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam: http://hdl.handle.net/11025/42944

Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.

hledání
navigace
  1. DSpace at University of West Bohemia
  2. Publikační činnost / Publications
  3. OBD