Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.advisorVlček, Jaroslav
dc.contributor.advisorKohout, Jiří
dc.contributor.authorJandová, Jitka
dc.contributor.refereeKubásek, Milan
dc.date.accepted2014-08-28
dc.date.accessioned2015-03-25T09:28:04Z-
dc.date.available2012-05-01cs
dc.date.available2015-03-25T09:28:04Z-
dc.date.issued2014
dc.date.submitted2014-07-31
dc.identifier54743
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11025/12667
dc.description.abstractPředkládaná diplomová práce se zabývá přípravou multikomponentních tenkých vrstev Hf-Si-B-C a Hf-Si-B-C-N metodou pulzního magnetronového naprašování. Deponované vrstvy jsou následně zkoumány z hlediska prvkového složení a struktury, mechanických, tribologických, elektrických vlastností a oxidačních odolnosti. Cílem práce je především nalezení korelací mezí procesními parametry, prvkovým složením, strukturou a funkčními vlastnostmi materiálu.cs
dc.format86 s. (116 168 znaků)cs
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.language.isocscs
dc.publisherZápadočeská univerzita v Plznics
dc.rightsPlný text práce je přístupný bez omezení.cs
dc.subjectpulzní depozicecs
dc.subjectmagnetronové naprašovánícs
dc.subjecttenké vrstvycs
dc.subjectmultikomponentní systémcs
dc.subjectdiboridy přechodových kovůcs
dc.subjecthafniumcs
dc.subjectHf-Si-B-C-(N)cs
dc.titlePulzní magnetronová depozice vrstev Hf-Si-B-C-Ncs
dc.title.alternativePulsed magnetron depozition of Hf-Si-B-C-N thin films and their propertiesen
dc.typediplomová prácecs
dc.thesis.degree-nameIng.cs
dc.thesis.degree-levelNavazujícícs
dc.thesis.degree-grantorZápadočeská univerzita v Plzni. Fakulta aplikovaných vědcs
dc.description.departmentKatedra fyzikycs
dc.thesis.degree-programAplikované vědy a informatikacs
dc.description.resultObhájenocs
dc.rights.accessopenAccessen
dc.description.abstract-translatedThis thesis is focused on multicomponent Hf-Si-B-C and Hf-Si-B-C-N thin films preparation by pulsed magnetron sputtering. The elemental composition, structure, mechanical, electrical properties and oxidation resistance of deposited films were subsequently evaluated. The main aim was to find the correlations between process parameters, elemental composition, structure and functional properties of these materials.en
dc.subject.translatedPulsed depositionen
dc.subject.translatedmagnetron sputteringen
dc.subject.translatedthin filmsen
dc.subject.translatedmulticomponent systemen
dc.subject.translateddiborides of transition metalen
dc.subject.translatedhafniumen
dc.subject.translatedHf-Si-B-C-(N)en
Appears in Collections:Diplomové práce / Theses (KFY)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Jandova_diplomova_prace.pdfPlný text práce3,89 MBAdobe PDFView/Open
Jandova_vedouci.pdfPosudek vedoucího práce306,27 kBAdobe PDFView/Open
Jandova_oponent.pdfPosudek oponenta práce532,45 kBAdobe PDFView/Open
Jandova_otazky.pdfPrůběh obhajoby práce206,04 kBAdobe PDFView/Open
Show simple item record


Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/11025/12667

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.

search
navigation
  1. DSpace at University of West Bohemia
  2. Vysokoškolské kvalifikační práce / Theses
  3. Fakulta aplikovaných věd / Faculty of Applied Sciences
  4. Katedra fyziky / Department of Physics
  5. Diplomové práce / Theses (KFY)