Full metadata record
DC poleHodnotaJazyk
dc.contributor.advisorMusil, Jindřich
dc.contributor.advisorJílek, Richard
dc.contributor.authorJaroš, Martin
dc.contributor.refereeHouška, Jiří
dc.date.accepted2014-08-28
dc.date.accessioned2015-03-25T09:28:07Z-
dc.date.available2013-05-01cs
dc.date.available2015-03-25T09:28:07Z-
dc.date.issued2014
dc.date.submitted2014-08-05
dc.identifier60528
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11025/12672
dc.description.abstractPředmětem této práce bylo vytvoření tenkých vrstev materiálu na bázi Ti-Ni-N, které byly připraveny pomocí reaktivního magnetronového naprašování s využitím duálního magnetronu. U série 1 byl zkoumán vliv opakovací frekvence fr na mechanické vlastnosti tenkých vrstev Ti-Ni-N. U série 2 a 3 byl zkoumán vliv napětí na substrátu Us. Série 3 obsahuje navíc (oproti sérii 2) kovovou mezivrstvu Ti-Ni-N. U série 1 bylo zjištěno, že s přibývající hodnotou opakovací frekvence dochází k poklesu indentační tvrdosti. Pro série 2 a 3 platí, že vrstvy u kterých je jejich poměr H/E*  0,1 a elastická vratnost We > 60 % vykazují vyšší odolnost proti vzniku trhlin. Přičemž jejich indentační tvrdost přesahuje hodnotu H > 25 GPa.cs
dc.format68 s.cs
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.language.isocscs
dc.publisherZápadočeská univerzita v Plznics
dc.relation.isreferencedbyhttps://portal.zcu.cz/StagPortletsJSR168/CleanUrl?urlid=prohlizeni-prace-detail&praceIdno=60528-
dc.rightsPlný text práce je přístupný bez omezení.cs
dc.subjectreaktivní magnetronové naprašovánícs
dc.subjectTi-Ni-Ncs
dc.subjecttenké vrstvycs
dc.subjectodolnost proti vzniku trhlincs
dc.titleReaktivní magnetronová depozice vrstev Ti-Ni-N a vyšetření jejich vlastnostícs
dc.title.alternativeReactive magnetron sputtering of Ti-Ni-N films and examination of their propertiesen
dc.typediplomová prácecs
dc.thesis.degree-nameIng.cs
dc.thesis.degree-levelNavazujícícs
dc.thesis.degree-grantorZápadočeská univerzita v Plzni. Fakulta aplikovaných vědcs
dc.description.departmentKatedra fyzikycs
dc.thesis.degree-programAplikované vědy a informatikacs
dc.description.resultObhájenocs
dc.rights.accessopenAccessen
dc.description.abstract-translatedThe subject of this paper was deposition thin Ti-Ni-N films, which were prepared by reactive magnetron sputtering with dual magnetron system. The influence of repetition frequency on the properties of deposited Ti-Ni-N films was investigated in series 1. The influence of substrate bias on the properties of deposited Ti-Ni-N films was investigated in series 2 and also in series 3. Compared series 2, series 3 additionally contains a metallic interlayer of Ti-Ni. It has been found that thin films sputtered in series 1 at higher repetition frequency exhibit lower hardness. In series 2 and 3 experiments demonstrate that the TiNiN films prepared with high ratio H/E*  0,1 and high elastic recovery We > 60 % exhibit an enhanced resistance against cracking in bending. These coatings are simultaneously hard H > 25 GPa.en
dc.subject.translatedreactive magnetron sputteringen
dc.subject.translatedTi-Ni-Nen
dc.subject.translatedthin filmsen
dc.subject.translatedresistance to crackingen
Vyskytuje se v kolekcích:Diplomové práce / Theses (KFY)

Soubory připojené k záznamu:
Soubor Popis VelikostFormát 
Diplomova prace Martin Jaros.pdfPlný text práce1,46 MBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Jaros_vedouci.pdfPosudek vedoucího práce509,06 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Jaros_oponent.pdfPosudek oponenta práce1,2 MBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Jaros_otazky.pdfPrůběh obhajoby práce212,35 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Zobrazit minimální záznam Zobrazit statistiky


Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam: http://hdl.handle.net/11025/12672

Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.

hledání
navigace
  1. DSpace at University of West Bohemia
  2. Vysokoškolské kvalifikační práce / Theses
  3. Fakulta aplikovaných věd / Faculty of Applied Sciences
  4. Katedra fyziky / Department of Physics
  5. Diplomové práce / Theses (KFY)