Full metadata record
DC poleHodnotaJazyk
dc.contributor.advisorPajdarová Andrea Dagmar, Mgr. Ph.D.
dc.contributor.authorLerchová, Tereza
dc.contributor.refereeKozák Tomáš, Ing. Ph.D.
dc.date.accepted2017-8-29
dc.date.accessioned2018-01-15T15:09:30Z-
dc.date.available2016-10-1
dc.date.available2018-01-15T15:09:30Z-
dc.date.issued2017
dc.date.submitted2017-8-22
dc.identifier68824
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11025/28564
dc.description.abstractPředkládaná bakalářská práce se v úvodu věnuje problematice plazmatu a plazmových technologií. V další kapitole popisuje současný stav problematiky na poli modelování výbojů plazmatu během depozice tenkých vrstev. Tato kapitola také obsahuje stručný popis dvou výchozích modelů pro tvorbu rozšířeného parametrického modelu. Dále se práce věnuje metodám zpracování, kde jsou uvedeny odvození rovnic použitých v rozšířeném modelu a volba parametrů. Je zde také uvedeno, jak byly předcházející modely doplněny. V poslední kapitole jsou ukázány výsledky rozšířeného modelu pro dva výbojové režimy a tyto výsledky jsou zde také diskutovány. Diskuse se opírá o experimentální data naměřená u nás na katedře, nebo převzatá z odborné literatury.cs
dc.format44 s.cs
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.language.isocscs
dc.publisherZápadočeská univerzita v Plznics
dc.relation.isreferencedbyhttps://portal.zcu.cz/StagPortletsJSR168/CleanUrl?urlid=prohlizeni-prace-detail&praceIdno=68824-
dc.rightsPlný text práce je přístupný bez omezení.cs
dc.subjectplazmacs
dc.subjecthipimscs
dc.subjectvysokovýkonové pulzní magnetronové naprašovánícs
dc.subjectdepozice tenkých vrstevcs
dc.subjectmodelovánícs
dc.subjectsimulacecs
dc.subjectrozprašování kovůcs
dc.subjectparametrický modelcs
dc.titleParametrické modelování pulzního vysokovýkonového magnetronového výboje pro depozici vrstevcs
dc.typebakalářská prácecs
dc.thesis.degree-nameBc.cs
dc.thesis.degree-levelBakalářskýcs
dc.thesis.degree-grantorZápadočeská univerzita v Plzni. Fakulta aplikovaných vědcs
dc.thesis.degree-programAplikované vědy a informatikacs
dc.description.resultObhájenocs
dc.rights.accessopenAccessen
dc.description.abstract-translatedAt the beginning, the presented bachelor's thesis is focused on the plasma medium and plasma technologies. Next, it describes the current state in the field of modelling of plasma discharges during the deposition of thin films. This chapter also contains a brief description of two models used for the creation of an extended parametric model. Furthermore, the work deals with the used methodology, which presents the derivation of the equations used in the extended model, and parameter selection. There is also referred, how the previous models were extended. In the last chapter, there are shown and discussed results of the extended model for two discharge regimes. The discussion is based on the experimental data measured at our department, or taken from the literature. Key words:en
dc.subject.translatedplasmaen
dc.subject.translatedhipimsen
dc.subject.translatedhigh power impulse magnetron sputteringen
dc.subject.translateddeposition of thin filmsen
dc.subject.translatedmodellingen
dc.subject.translatedsimulationen
dc.subject.translatedsputtering of metalsen
dc.subject.translatedparametric modelen
Vyskytuje se v kolekcích:Bakalářské práce / Bachelor´s works (KFY)

Soubory připojené k záznamu:
Soubor Popis VelikostFormát 
BP_T.Lerchova.pdfPlný text práce1,77 MBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Lerchova_oponent.pdfPosudek oponenta práce2,05 MBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Lerchova_vedouci.pdfPosudek vedoucího práce877,76 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Lerchova_otazky.pdfPrůběh obhajoby práce219,33 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít


Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam: http://hdl.handle.net/11025/28564

Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.