Full metadata record
DC poleHodnotaJazyk
dc.contributor.advisorVlček, Jaroslav
dc.contributor.authorKolenatý, David
dc.contributor.refereeRusňák, Karel
dc.date.accepted2012-06-27
dc.date.accessioned2013-06-19T06:55:56Z-
dc.date.available2011-05-01cs
dc.date.available2013-06-19T06:55:56Z-
dc.date.issued2012
dc.date.submitted2012-05-29
dc.identifier49912
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11025/3716
dc.description.abstractTato bakalářská práce je zaměřena na reaktivní depozici vrstev pomocí vysokovýkonového pulzního magnetronového zdroje HiPIMS. Vrstvy byly připravovány v atmosféře argonu a kyslíku za konstantního celkového tlaku 2 Pa. Zirkoniový terč o průměru 100 mm s aplikovaným tantalovým kroužkem, zasahujícím do erozivní zóny terče, byl zatěžován konstantní výkonovou hustotou v periodě 15 W/cm2. Opakovací frekvence pulzů byla 500 Hz a střída 2,5% a 10%. Proměnnými parametry depozičního procesu byla délka pulzu 50 a 200 mikrosekund a šířka tantalového kroužku 0;2;3;5;7;10;20 mm. U takto připravených vrstev bylo provedeno měření depoziční rychlosti, tvrdosti a vnitřního pnutí, analýza fázového složení RTG difrakcí, elipsometrické měření extinkčního koeficientu a indexu lomu.cs
dc.format48 s.cs
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.language.isocscs
dc.publisherZápadočeská univerzita v Plznics
dc.rightsPlný text práce je přístupný bez omezení.cs
dc.subjectreaktivní magnetronové naprašovánícs
dc.subjectHiPIMScs
dc.subjecttenké vrstvy oxidů zirkonu a tantalucs
dc.titleReaktivní depozice vrstev pomocí vysokovýkonového pulzního magnetronového zdrojecs
dc.title.alternativeReactive High-Power Impulsed Magnetron Sputteringen
dc.typebakalářská prácecs
dc.thesis.degree-nameBc.cs
dc.thesis.degree-levelBakalářskýcs
dc.thesis.degree-grantorZápadočeská univerzita v Plzni. Fakulta aplikovaných vědcs
dc.description.departmentKatedra fyzikycs
dc.thesis.degree-programAplikované vědy a informatikacs
dc.description.resultObhájenocs
dc.rights.accessopenAccessen
dc.description.abstract-translatedThis thesis is aimed at reactive High-Power Impulsed Magnetron Sputtering (HiPIMS). Thin films were prepared in oxygen and argon atmosphere, at working pressure 2 Pa. A zirconium target of 100 mm in diameter with applied tantalum ring to erosion area was loaded by average power density in period 15 W/cm2. Repetition frequency of pulse was 500 Hz and pulse duration (duty cycle) was 2,5% and 10%. Variable parameters of deposition were pulse length 50 a 200 microsecond and width of tantalum ring 0;2;3;5;7;10;20 mm. At films created in this way were measured deposition rate, microhardness, stress, structure, extinction coefficient and refractive index.en
dc.subject.translatedreactive High-Power Impulsed Magnetron Sputtering (HiPIMS)en
dc.subject.translatedthin oxide films of zirconia and tantalumen
Vyskytuje se v kolekcích:Bakalářské práce / Bachelor´s works (KFY)

Soubory připojené k záznamu:
Soubor Popis VelikostFormát 
Kolenaty David - Reaktivni depozice vrstev pomoci vysokovykonoveho pulzniho magnetronoveho zdroje.pdfPlný text práce1,51 MBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Kolenaty_vedouci.pdfPosudek vedoucího práce300,68 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Kolenaty_oponent.pdfPosudek oponenta práce520,33 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Kolenaty_otazky.pdfPrůběh obhajoby práce200,06 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Zobrazit minimální záznam Zobrazit statistiky


Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam: http://hdl.handle.net/11025/3716

Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.

hledání
navigace
  1. DSpace at University of West Bohemia
  2. Vysokoškolské kvalifikační práce / Theses
  3. Fakulta aplikovaných věd / Faculty of Applied Sciences
  4. Katedra fyziky / Department of Physics
  5. Bakalářské práce / Bachelor´s works (KFY)