Full metadata record
DC poleHodnotaJazyk
dc.contributor.advisorMusil, Jindřich
dc.contributor.authorZítek, Michal
dc.contributor.refereeTölg, Tomáš
dc.date.accepted2012-06-27
dc.date.accessioned2013-06-19T06:55:57Z-
dc.date.available2011-05-01cs
dc.date.available2013-06-19T06:55:57Z-
dc.date.issued2012
dc.date.submitted2012-05-29
dc.identifier49977
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11025/3719
dc.description.abstractPředmětem této práce je příprava tenkých vrstev Ti-Si-O-N pomocí DC pulzního nevyváže-ného magnetronového naprašování. Byly použity dva skládané Si-Ti terče s různým poměrem Si a Ti v erozivní zóně pro přípravu dvou sérií vzorků. Reaktivní plyn (O2) byl napouštěn pulzně. Byl zkoumán vliv pracovního cyklu při pulzním napouštění O2 na strukturu, depoziční rychlost a optické a mechanické vlastnosti. Struktura byla zkoumána rentgenovou difrakcí. Optické vlastnosti byly zjišťovány pomocí spektrofotometru a elipsometru. Mechanické vlastnosti byly určovány ze zkoušky mikrotvrdosti.cs
dc.format40 s. (45 000 znaků)cs
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.language.isocscs
dc.publisherZápadočeská univerzita v Plznics
dc.relation.isreferencedbyhttps://portal.zcu.cz/StagPortletsJSR168/CleanUrl?urlid=prohlizeni-prace-detail&praceIdno=49977-
dc.rightsPlný text práce je přístupný bez omezení.cs
dc.subjectTi-Si-O-Ncs
dc.subjecttenké vrstvycs
dc.subjectreaktivní magnetronové naprašovánícs
dc.subjectmechanické vlastnostics
dc.subjectoptické vlastnostics
dc.titleNaprašování nanokompozitních vrstev Ti-Si-O-N a jejich vlastnostics
dc.title.alternativeSputtering of Ti-Si-O-N nanocomposite films and their propertiesen
dc.typebakalářská prácecs
dc.thesis.degree-nameBc.cs
dc.thesis.degree-levelBakalářskýcs
dc.thesis.degree-grantorZápadočeská univerzita v Plzni. Fakulta aplikovaných vědcs
dc.description.departmentKatedra fyzikycs
dc.thesis.degree-programAplikované vědy a informatikacs
dc.description.resultObhájenocs
dc.rights.accessopenAccessen
dc.description.abstract-translatedThe subject of this thesis is the deposition of Ti-Si-O-N thin films using a pulsed DC reactive unbalanced magnetron sputtering. There were used two stacked Si-Ti targets with a different ratio of Si and Ti in the erosive zone for the deposition of samples from two series. Reactive gas pulsing process was used for oxygen. The duty cycle of oxygen on structure, deposition rate, optical and mechanical properties of the obtained films have been analysed. The structure of the films was characterized by X-ray diffraction. The optical properties were investigated by spectrophotometer and ellipsometry. Mechanical properties were determined of microhardness test.en
dc.subject.translatedTi-Si-O-Nen
dc.subject.translatedthin filmsen
dc.subject.translatedreactive magnetron sputteringen
dc.subject.translatedmechanical propertiesen
dc.subject.translatedoptical propertiesen
Vyskytuje se v kolekcích:Bakalářské práce / Bachelor´s works (KFY)

Soubory připojené k záznamu:
Soubor Popis VelikostFormát 
Zitek - Bakalarska prace.pdfPlný text práce1,94 MBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Zitek_vedouci.pdfPosudek vedoucího práce372,65 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Zitek_oponent.pdfPosudek oponenta práce481,89 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Zitek_otazky.pdfPrůběh obhajoby práce196,68 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Zobrazit minimální záznam Zobrazit statistiky


Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam: http://hdl.handle.net/11025/3719

Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.

hledání
navigace
  1. DSpace at University of West Bohemia
  2. Vysokoškolské kvalifikační práce / Theses
  3. Fakulta aplikovaných věd / Faculty of Applied Sciences
  4. Katedra fyziky / Department of Physics
  5. Bakalářské práce / Bachelor´s works (KFY)