Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.advisorPajdarová Andrea Dagmar, Mgr. Ph.D.
dc.contributor.authorTeřl, Vít
dc.contributor.refereeKozák Tomáš, Ing. Ph.D.
dc.date.accepted2019-6-25
dc.date.accessioned2020-07-17T13:42:18Z-
dc.date.available2018-10-1
dc.date.available2020-07-17T13:42:18Z-
dc.date.issued2019
dc.date.submitted2019-5-24
dc.identifier76639
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11025/37535
dc.description.abstractPředložená bakalářská práce se zaměřuje na studium ionizace atomů sekundárními elektrony v objemu plazmatu pulzního vysokovýkonového magnetronového výboje pro depozici vrstev. Na tento úkol byl vytvořen počítačový model. V první části je stručně popsán princip a vývoj pulzního vysokovýkonového magnetronového naprašování a způsoby počítačového modelování plazmatu. Ve druhé části je vytvořen počítačový program implementující metodu Leapfrog a Borisovu metodu na výpočet pohybu elektronů ve výboji a Monte Carlo kolizní metodu na výpočet ionizačních srážek. Pomocí tohoto modelu jsou provedeny simulace na sledování objemové hustoty ionizace atomů pracovního plynu a rozprášeného kovu sekundárními elektrony pro různé výbojové proudy. Výsledné objemové hustoty ionizace atomů dané simulacemi jsou řádně prodiskutovány.cs
dc.format40 s.cs
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.language.isocscs
dc.publisherZápadočeská univerzita v Plznics
dc.rightsPlný text práce je přístupný bez omezení.cs
dc.subjectmagnetronové naprašovánícs
dc.subjectmonte carlo kolizní metodacs
dc.subjecttransport sekundárních elektronůcs
dc.subjectmodelovánícs
dc.subjectionizacecs
dc.titlePočítačové modelování pulzního vysokovýkonového magnetronového výboje pro depozici vrstevcs
dc.typebakalářská prácecs
dc.thesis.degree-nameBc.cs
dc.thesis.degree-levelBakalářskýcs
dc.thesis.degree-grantorZápadočeská univerzita v Plzni. Fakulta aplikovaných vědcs
dc.thesis.degree-programAplikované vědy a informatikacs
dc.description.resultObhájenocs
dc.rights.accessopenAccessen
dc.description.abstract-translatedThe presented thesis is focused on the ionization of different atoms by secondary electrons in high power impulse magnetron sputtering used for thin film deposition. A computer model was developed for this task. In the first part, the principles and development of high power impulse magnetron sputtering and plasma computer simulations techniques are presented. In the second part there are described methods implemented by the developed computer program, mainly Leapfrog method and Boris method for movement of electrons in discharge and Monte Carlo collision method for collision calculations. Simulations are performed to obtain ionization volume density of working gas atoms and sputtered metal atoms. Simulations are obtained by the computer program and are differentiated by different discharge current. Resulting ionization volume density given by simulations are discussed.en
dc.subject.translatedmagnetron sputteringen
dc.subject.translatedmonte carlo collision methoden
dc.subject.translatedtransport of secondary electronsen
dc.subject.translatedmodelingen
dc.subject.translatedionizationen
Appears in Collections:Bakalářské práce / Bachelor´s works (KFY)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
BP_terl.pdfPlný text práce2,82 MBAdobe PDFView/Open
Terl_vedouciBP.pdfPosudek vedoucího práce449,54 kBAdobe PDFView/Open
Terl_oponentBP.pdfPosudek oponenta práce2,27 MBAdobe PDFView/Open
Terl_obhajoba.pdfPrůběh obhajoby práce185,52 kBAdobe PDFView/Open
Show simple item record


Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/11025/37535

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.

search
navigation
  1. DSpace at University of West Bohemia
  2. Vysokoškolské kvalifikační práce / Theses
  3. Fakulta aplikovaných věd / Faculty of Applied Sciences
  4. Katedra fyziky / Department of Physics
  5. Bakalářské práce / Bachelor´s works (KFY)