Title: Phase formation and mechanical properties of reactively and non-reactively sputtered Ti-B-N hard coatings
Other Titles: Vznik fází a mechanické vlastnosti reaktivně a nereaktivně naprašovaných tvrdých vrstev Ti-B-N
Authors: Hahn, R.
Tymoszuk, A.
Wojcik, T.
Kirnbauer, A.
Kozák, Tomáš
Čapek, Jiří
Sauer, M.
Foelske, A.
Hunold, O.
Polcik, P.
Mayrhofer, P.H.
Riedl, H.
Citation: HAHN, R., TYMOSZUK, A., WOJCIK, T., KIRNBAUER, A., KOZÁK, T., ČAPEK, J., SAUER, M., FOELSKE, A., HUNOLD, O., POLCIK, P., MAYRHOFER, P., RIEDL, H. Phase formation and mechanical properties of reactively and non-reactively sputtered Ti-B-N hard coatings. Surface and Coatings Technology, 2021, roč. 420, č. 25 AUG 2021, s. "127327-1" - "127327-11". ISSN 0257-8972.
Issue Date: 2021
Publisher: Elsevier
Document type: článek
article
URI: 2-s2.0-85107160831
http://hdl.handle.net/11025/44922
ISSN: 0257-8972
Keywords: Depozice z plynné fáze;Nereaktivní magnetronové naprašování;Mez pevnosti;Ti-B-N
Keywords in different language: Physical vapor deposition;Non-reactive magnetron sputtering;Fracture toughness;Ti-B-N
Abstract: Článek systematicky studuje vliv obsahu B ve vrstvách Ti-B-N připravených reaktivním i nereaktivním magnetronovým naprašováním. Rozdílné postupy depozice vedou na odlišné mikrostruktury a vazebné charakteristiky připravených vrstev. Během reaktivní depozice Ti-B-N dominují vazby B-N, zatímco vazby B-B a Ti-B dominují při nereaktivní depozici. Rentgenová difrakce a transmisní elektronová mikroskopie prokazují, že až 10 at.% B může být rozpuštěno v fcc mřížce Ti-N u vrstev připravených nereaktivním naprašováním. Na druhou stranu u vrstev připravených reaktivním naprašováním s obsahem B 4 at.% dochází již ke vzniku fáze BN.
Abstract in different language: The article systematically studies the influence of B content on Ti-B-N during reactive as well as non-reactive DC magnetron sputtering. The different deposition routes allow for an additional, very effective key parameter to modify bond characteristics and microstructure. During reactive deposition of Ti-B-N, the B–N bonds dominate whereas the B–B and Ti–B bonds dominate for non-reactively prepared Ti-B-N. Detailed X-ray diffraction and transmission electron microscopy studies reveal, that up to 10 at.% B can be dissolved in the fcc-TiN lattice when prepared by non-reactive sputtering, whereas already for a B content of 4 at.% a BN-rich boundary phase forms when reactively sputtered.
Rights: © Elsevier
Appears in Collections:Články / Articles (NTIS)
OBD

Files in This Item:
File SizeFormat 
OBD21_Kozak,Capek_clanek.pdf5,23 MBAdobe PDFView/Open


Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/11025/44922

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.

search
navigation
  1. DSpace at University of West Bohemia
  2. Publikační činnost / Publications
  3. OBD