Full metadata record
DC poleHodnotaJazyk
dc.contributor.authorKagerer, S.
dc.contributor.authorZauner, L.
dc.contributor.authorWojcik, T.
dc.contributor.authorKoloszvári, S.
dc.contributor.authorKozák, Tomáš
dc.contributor.authorČapek, Jiří
dc.contributor.authorZeman, Petr
dc.contributor.authorRiedl, H.
dc.contributor.authorMayrhofer, P.H.
dc.date.accessioned2021-10-04T10:00:11Z-
dc.date.available2021-10-04T10:00:11Z-
dc.date.issued2021
dc.identifier.citationKAGERER, S. ZAUNER, L. WOJCIK, T. KOLOSZVÁRI, S. KOZÁK, T. ČAPEK, J. ZEMAN, P. RIEDL, H. MAYRHOFER, P. Reactive HiPIMS deposition of Al-oxide thin films using W-alloyed Al targets. Surface and Coatings Technology, 2021, roč. 422, č. 25 SEP 2021, s. "127467-1" - "127467-10". ISSN: 0257-8972cs
dc.identifier.issn0257-8972
dc.identifier.uri2-s2.0-85110752168
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11025/45429
dc.description.abstractČlánek detailně zkoumá vliv 2 at. % wolframu v hliníkovém terči na stabilitu procesu a fázové složení vrstev Al2O3 při DC magnetronovém naprašování a HiPIMS naprašování. Malá příměs W do Al terče dovoluje zvýšit parciální tlak kyslíku o více než 200 % při zachování stabilního depozičního procesu. Výsledky hmotnostní spektroskopie iontů ukazují vysoký podíl kyslíkových iontů ve výboji pro depozice uskutečněné v přechodovém režimu reaktivního výboje. Detailní analýza pomocí elektronového mikroskopu ukazuje přítomnost kovových fází ve vrstvách připravených s vyšší střídou pulzů (7,5 %). Snížení střídy na 3,75 % vede k vytvoření amorfních vrstev, jakmile je depozice udržována v kovovém módu při nejvyšším možném parciálním tlaku kyslíku.cs
dc.format10 s.cs
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.language.isoenen
dc.publisherElsevieren
dc.relation.ispartofseriesSurface and Coatings Technologyen
dc.rights© autořics
dc.subjectR-HiPIMS depozicecs
dc.subjectoxid hlinitýcs
dc.subjectoxidace terčecs
dc.subjectpolymorfní strukturycs
dc.titleReactive HiPIMS deposition of Al-oxide thin films using W-alloyed Al targetsen
dc.title.alternativeReaktivní HiPIMS depozice tenkých vrstev oxidů hliníku s využitím Al terčů dopovaných Wcs
dc.typečlánekcs
dc.typearticleen
dc.rights.accessopenAccessen
dc.type.versionpublishedVersionen
dc.description.abstract-translatedWe investigated in detail the influence of 2 at.% tungsten in the Al-target on the process stability and phase formation during reactive DC magnetron sputtering as well as high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) of Al2O3-based coatings. The small addition of W to the Al target allows to increase the oxygen partial pressure by more than 200% while maintaining a stable deposition process. Ion mass spectroscopy measurements yield a promising high fraction of oxygen ions, when operating the W-containing target in the metal-to-poisoned transition mode. Detailed electron microscopy investigations show the presence of metallic phase fractions for higher duty cycles (7.5%). Decreasing the duty cycle to 3.75% leads to amorphous coatings when operating the Al-target at the highest oxygen partial pressure in metallic mode.en
dc.subject.translatedR-HiPIMS depositionen
dc.subject.translatedAluminaen
dc.subject.translatedTarget poisoningen
dc.subject.translatedPolymorph structuresen
dc.identifier.doi10.1016/j.surfcoat.2021.127467
dc.type.statusPeer-revieweden
dc.identifier.document-number685607200028
dc.identifier.obd43933205
dc.project.IDEF17_048/0007267/InteCom: VaV inteligentních komponent pokročilých technologií pro plzeňskou metropolitní oblastcs
Vyskytuje se v kolekcích:Články / Articles (NTIS)
OBD

Soubory připojené k záznamu:
Soubor VelikostFormát 
OBD21_Kozak,Capek,Zeman_clanek.pdf7,5 MBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Zobrazit minimální záznam Zobrazit statistiky


Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam: http://hdl.handle.net/11025/45429

Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.

hledání
navigace
  1. DSpace at University of West Bohemia
  2. Publikační činnost / Publications
  3. OBD