Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.advisorVlček, Jaroslav
dc.contributor.advisorKozák, Tomáš
dc.contributor.authorŠula, Michal
dc.contributor.refereeKos, Šimon
dc.date.accepted2013-08-22
dc.date.accessioned2014-02-06T12:56:18Z-
dc.date.available2012-05-01cs
dc.date.available2014-02-06T12:56:18Z-
dc.date.issued2013
dc.date.submitted2013-08-16
dc.identifier54747
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11025/9867
dc.description.abstractPředložená bakalářská práce se nejdříve zabývá obecným shrnutím současného stavu problematiky pulzního reaktivního naprašování tenkých dielektrických vrstev. Jsou popsány základní údaje a problémy tohoto oboru, a software užitý pro simulace srážek částic SDTrimSP. Dále se práce zabývá popsáním fenomenologického modelu reaktivního naprašování tenkých vrstev jeho následnou analýzou. Jsou prezentovány rovnice modelu, a následně použity k numerické simulaci naprašovacího procesu v kontinuálním, pulzním a HiPIMS režimu. Poté se práce zabývá vlivem některých vstupních parametrů modelu na výsledky výpočtů. Na závěr je shrnuta užitá literatura a zdroje.cs
dc.format39 s.cs
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.language.isocscs
dc.publisherZápadočeská univerzita v Plznics
dc.rightsPlný text práce je přístupný bez omezení.cs
dc.subjectnaprašování tenkých vrstevcs
dc.subjectdielektrické tenké vrstvycs
dc.subjectpulzní reaktivní naprašovánícs
dc.subjectHiPIMScs
dc.subjectfenomenologický modelcs
dc.titleFenomenologický model pro vysokovýkonovou pulzní reaktivní magnetronovou depozici dielektrických vrstevcs
dc.title.alternativeA phenomenological model for high energy pulse reactive magnetron sputtering of dielectric layersen
dc.typebakalářská prácecs
dc.thesis.degree-nameBc.cs
dc.thesis.degree-levelBakalářskýcs
dc.thesis.degree-grantorZápadočeská univerzita v Plzni. Fakulta aplikovaných vědcs
dc.description.departmentKatedra fyzikycs
dc.thesis.degree-programAplikované vědy a informatikacs
dc.description.resultObhájenocs
dc.rights.accessopenAccessen
dc.description.abstract-translatedPresented thesis is first, at the beggining, focused on summation of the current state in the field of pulsed reactive sputtering of dielectric thin films. Basic terms and problems are presented, along with short description of SDTrimSP, a software used for simulation of particle collisions. Next, the work focuses on description of a phenomenological model of reactive sputtering of thin films, and it's following numerical simulation of continual, pulse and HiPIMS modes of sputtering. After that, several input parameters of the model are analysed. At the end, a list of used materials is presented.en
dc.subject.translatedthin films sputteringen
dc.subject.translateddielectric thin filmsen
dc.subject.translatedpulsed reactive sputteringen
dc.subject.translatedHiPIMSen
dc.subject.translatedphenomenological modelen
Appears in Collections:Bakalářské práce / Bachelor´s works (KFY)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
MichalSula-BakPrace.pdfPlný text práce1,86 MBAdobe PDFView/Open
Sula_vedouci.pdfPosudek vedoucího práce295,68 kBAdobe PDFView/Open
Sula_oponent.pdfPosudek oponenta práce1,54 MBAdobe PDFView/Open
Sula_otazky.pdfPrůběh obhajoby práce209,62 kBAdobe PDFView/Open
Show simple item record


Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/11025/9867

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.

search
navigation
  1. DSpace at University of West Bohemia
  2. Vysokoškolské kvalifikační práce / Theses
  3. Fakulta aplikovaných věd / Faculty of Applied Sciences
  4. Katedra fyziky / Department of Physics
  5. Bakalářské práce / Bachelor´s works (KFY)