Prohlížení dle Autor Kolenatý, David
Zobrazují se výsledky 1 až 10 z 10
| Datum vydání | Název | Autor |
| 2017 | Controlled reactive HiPIMS: effective technique for low-temperature (300°C) synthesis of VO2 films with semiconductor-to-metal transition | Kolenatý, David; Vlček, J.; Kozák, Tomáš; Houska, Josef; Čerstvý, Radomír |
| 2022 | Electron-positron pairs and radioactive nuclei production by irradiation of high-Z target with γ-photon flash generated by an ultra-intense laser in the λ3 regime | Kolenatý, David; Hadjisolomou, Prokopis; Versaci, Roberto; Jeong, Tae Moon; Valenta, Petr; Olšovcová, Veronika; Bulanov, Sergei Vladimirovich |
| 2020 | High‑performance thermochromic VO2‑based coatings with a low transition temperature deposited on glass by a scalable technique | Kolenatý, David; Vlček, Jaroslav; Bárta, Tomáš; Rezek, Jiří; Houška, Jiří; Haviar, Stanislav |
| 2019 | Ion-flux characteristics during low-temperature (300 °C) deposition of thermochromic VO2 films using controlled reactive HiPIMS | Vlček, Jaroslav; Kolenatý, David; Kozák, Tomáš; Houška, Jiří; Čapek, Jiří; Kos, Šimon |
| 2018 | Nízkoteplotní depozice vysoce funkčních termochromických povlaků na bázi VO2 použitím pulzního reaktivního magnetronového naprašování | Kolenatý, David |
| 2016 | Reactive high-power impulse magnetron sputtering of thermochromic VO2 films on silicon substrate at low deposition temperatures | Kolenatý, David; Houška, Jiří; Rezek, Jiří; Čerstvý, Radomír; Vlček, Jaroslav |
| 2012 | Reaktivní depozice vrstev pomocí vysokovýkonového pulzního magnetronového zdroje | Kolenatý, David |
| 2014 | Reaktivní vysokovýkonová pulzní magnetronová depozice vrstev HfO2 | Kolenatý, David |
| 2014 | Reaktivní vysokovýkonová pulzní magnetronová depozice vrstev HfO2 | Kolenatý, David |
| 2019 | Significant improvement of the performance of ZrO2/V1–xWxO2/ZrO2 thermochromic coatings by utilizing a second-order interference | Houška, Jiří; Kolenatý, David; Vlček, Jaroslav; Bárta, Tomáš; Rezek, Jiří; Čerstvý, Radomír |
