Hledat


Aktuální filtry:

Začít nové hledání
Přidat filtry:

Filtry použijte k upřesnění výsledků hledání.


Výsledky 1-10 z 11.
Odpovídající záznamy:
Datum vydáníNázevAutor
2021Multifunctional MoOx and MoOxNy films with 2.5 < x < 3.0 and y < 0.2 prepared using controlled reactive deep oscillation magnetron sputteringProcházka, Michal; Vlček, Jaroslav; Houška, Jiří; Haviar, Stanislav; Čerstvý, Radomír; Veltruská, Kateřina
2021Dependence of characteristics of Hf(M)SiBCN (M = Y, Ho, Ta, Mo) thin films on the M choice: Ab-initio and experimental studyMatas, Martin; Procházka, Michal; Vlček, Jaroslav; Houška, Jiří
2021Enhancement of high-temperature oxidation resistance and thermal stability of hard and optically transparent Hf–B–Si–C–N films by Y or Ho additionČervená, Michaela; Zeman, Petr; Houška, Jiří; Šímová, Veronika; Procházka, Michal; Čerstvý, Radomír; Haviar, Stanislav; Vlček, Jaroslav
2021Self-formation of dual glassy-crystalline structure in magnetron sputtered W–Zr filmsZeman, Petr; Haviar, Stanislav; Červená, Michaela
2021Hard alloy films with enhanced resistance to crackingMusil, Jindřich; Čiperová, Zuzana; Čerstvý, Radomír; Kos, Šimon
2021Effect of exit-orifice diameter on Cu nanoparticles produced by gas-aggregation sourceBatková, Šárka; Kozák, Tomáš; Haviar, Stanislav; Mareš, Pavel; Čapek, Jiří
2021Maximum achievable N content in atom-by-atom growth of amorphous Si–B–C–N materialsHouška, Jiří
2021Tvrdé slitinové vrstvy se zvýšenou odolností proti vzniku trhlinČiperová, Zuzana
2021Tenkovrstvé slitiny a neoxidové keramiky s amorfní nebo metastabilní krystalickou strukturouČervená, Michaela
2021Senzory vodíku na bázi oxidu wolframu připravené pokročilými metodami reaktivního magnetronového naprašováníKumar, Nirmal