| Title: | Ion-flux characteristics during low-temperature (300 °C) deposition of thermochromic VO2 films using controlled reactive HiPIMS |
| Other Titles: | Charakteristiky iontového toku během nízkoteplotní (300 °C) depozice termochromických VO2 vrstev pomocí řízeného reaktivního HiPIMS |
| Authors: | Vlček, Jaroslav Kolenatý, David Kozák, Tomáš Houška, Jiří Čapek, Jiří Kos, Šimon |
| Citation: | VLČEK, J., KOLENATÝ, D., KOZÁK, T., HOUŠKA, J., ČAPEK, J., KOS, Š. Ion-flux characteristics during low-temperature (300 °C) deposition of thermochromic VO2 films using controlled reactive HiPIMS. JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS, 2019, roč. 52, č. 2, s. „025205-1“-„025205-9“. ISSN: 0022-3727 |
| Issue Date: | 2019 |
| Publisher: | IOP Publishing |
| Document type: | článek article |
| URI: | 2-s2.0-85056719206 http://hdl.handle.net/11025/30917 |
| ISSN: | 0022-3727 |
| Keywords: | HiPIMS;Termochromické VO2;Hmotnostní spektroskopie;Charakteristiky iontového toku;Pulzní řízení |
| Keywords in different language: | HiPIMS;Thermochromic VO2;Mass spectroscopy;Ion-flux characteristics;Pulsed control |
| Abstract: | Charakteristiky iontových toků na pozici substrátu a odpovídající výbojové charakteristiky byly vyšetřovány pro řízené nízkoteplotní (300 °C) reaktivní HiPIMS depozice termochromických VO2 vrstev na konvenční sodnovápenaté skleněné substráty bez přivedeného předpětí na substrát a bez jakékoliv mezivrstvy. Bylo ukázáno, že fázové složení vrstev korelovalo s iontovým podílem (V+ + V2+) a s poměrem iontů (V+ + V2+):(2O2+ + O+) v celkovém iontovém toku na substrát. Nastavení množství kyslíku v plynné směsi umožnilo řídit nejen fázové složení vrstev, ale také jejich krystalinitu. Bylo zjištěno, že vhodné složení celkového iontového toku a vysoké energie iontů (až 50 eV vůči zemi) podpořily krystalizaci termochromické fáze ve VO2 vrstvách. Dosáhli jsme vysoké modulace transmitance pro vlnovou délku 2500 nm (mezi 51 % a 8 %) a elektrické rezistivity (změna 350×) VO2 vrstvy o tloušťce 88 nm. |
| Abstract in different language: | The ion-flux characteristics at a substrate position and the corresponding discharge characteristics were investigated during controlled low-temperature (300 °C) reactive HiPIMS depositions of thermochromic VO2 films onto conventional soda-lime glass substrates without any substrate bias voltage and without any interlayer. It was shown that the phase composition of the films correlates with the (V+ + V2+) ion fraction and the (V+ + V2+):(2O2+ + O+) ion ratio in the total ion flux onto the substrate. Setting the amount of oxygen in the gas mixture allowed us to control not only the phase composition of the films but also their crystallinity. It was found that an appropriate composition of the total ion flux and high ion energies (up to 50 eV relative to ground potential) support the crystallization of the thermochromic phase in the VO2 films. We achieved a high modulation of the transmittance at 2500 nm (between 51% and 8%) and of the electrical resistivity (changed 350 times) for a 88 nm thick VO2 film. |
| Rights: | Plný text není přístupný. © IOP Publishing |
| Appears in Collections: | Články / Articles (MMI) OBD |
Files in This Item:
| File | Size | Format | |
|---|---|---|---|
| OBD19_Vlcek,Kolenaty,Kozak_clanek.pdf | 1,93 MB | Adobe PDF | View/Open Request a copy |
Please use this identifier to cite or link to this item:
http://hdl.handle.net/11025/30917Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.