Title: Tenkovrstvé povlaky na bázi kovových skel Zr-Hf-Cu
Authors: Hutsalo, Kseniia
Advisor: Zeman Petr, Doc. Ing. Ph.D.
Referee: Rezek Jiří, Ing. Ph.D.
Issue Date: 2018
Publisher: Západočeská univerzita v Plzni
Document type: diplomová práce
URI: http://hdl.handle.net/11025/32826
Keywords: kovová skla;magnetronové naprašování;zr-hf-cu;hipims
Keywords in different language: metallic glass;magnetron sputtering;zr-hf-cu;hipims
Abstract: V rámci diplomové práce byly připraveny tři série vrstev Zr-Hf-Cu, které jsou deponovány vysokovýkonovým pulzním magnetronovým nazprašováním HiPIMS v depoziční komoře. Depozice byly prováděny v atmosféře argonu. Základní tlak před každým ukládáním byl nižší než 5×10-5 Pa. První série byla s obsahem 46 at.% Cu, zatímco druhá série byla s 59 at.% Cu a třetí byla s 68 at.% Cu. Cílem bylo zhodnotit vliv poměru Hf/(Hf+Zr) na strukturu, tepelné chování, mechanické a povrchové vlastnosti vrstev.
Abstract in different language: As part of the diploma thesis were prepared three series of Zr-Hf-Cu layers, applied by highly efficient HiPIMS pulse magnetron sputtering in the deposition chamber. The depositions were performed in an atmosphere of argon. The basic pressure before each depositing was less than 5x10-5 Pa. The first series contained 46 at.% Cu, while the second series had 59 at.% Cu and the third one 68 at.% Cu. The aim was to evaluate the influence of the Hf /(Hf + Zr) ratio on the structure, thermal behavior, mechanical and surface properties of the layers.
Rights: Plný text práce je přístupný bez omezení.
Appears in Collections:Diplomové práce / Theses (KFY)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
DIPLOMOVA PRACE.pdfPlný text práce1,94 MBAdobe PDFView/Open
Hutsalo_vedouci.pdfPosudek vedoucího práce480,97 kBAdobe PDFView/Open
Hutsalo_oponent.pdfPosudek oponenta práce1,05 MBAdobe PDFView/Open
HutsaloDP_obhajoba.pdfPrůběh obhajoby práce225,21 kBAdobe PDFView/Open


Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/11025/32826

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.