Název: Pulzní reaktivní magnetronové naprašování termochromických povlaků na bázi VO2
Autoři: Čurda, Pavel
Vedoucí práce/školitel: Vlček Jaroslav, Prof. RNDr. CSc.
Oponent: Kos Šimon, Doc. Mgr. Ph.D.
Datum vydání: 2020
Nakladatel: Západočeská univerzita v Plzni
Typ dokumentu: diplomová práce
URI: http://hdl.handle.net/11025/41892
Klíčová slova: oxid vanadičitý;termochromické povlaky;antireflexní vrstvy;dopování wolframem;chytrá okna
Klíčová slova v dalším jazyce: vanadium dioxide;thermochromic coatings;antireflection layers;doping of tungsten;smart windows
Abstrakt: Tato práce je zaměřena na reaktivní depozici V1-xWxO2 termochromických povlaků pomocí vysokovýkonového pulzního magnetronového naprašování. Jsou uvedeny průmyslové nároky na termochromické povlaky a jejich možné dosažení využitím dopování dalších prvků a antireflexní vrstvy. Mezi často dopované prvky patří wolfram, který efektivně snižuje přechodovou teplotu. Antireflexní vrstvy slouží zejména k vylepšení optických vlastností. Popsána je také depoziční aparatura a analytické metody, jako jsou rentgenová difrakce, elipsometrie, spektrofotometrie a vlnově disperzní spektroskopie. V experimentální části byly připraveny vzorky ZrO2/V1-xWxO2/ZrO2. Je ukázán průběh transmitance a porovnání vlivu depozičních parametrů na technologickou náročnost procesu
Abstrakt v dalším jazyce: This thesis deals with reactive deposition of V1-xWxO2 thermochromic films using High Power Impulse Magnetron Sputtering. The industrial requirements are given for the thermochromic films alongside with possibilities on how to reach them, like doping of other elements and antireflection coating. Tungsten is often used as co-doped element as an effective way how to decrease the transition temperature. Antireflection coating is used mainly to improve the optical properties. The description of deposition system is given as well as the description of analytical methods such as X-ray diffraction, ellipsometry, spectrophotometry and wavelength dispersive spectroscopy. Samples of ZrO2/V1-xWxO2/ZrO2 were prepared in experimental part. The transmittance and the comparison of the influence of deposition parameters on the technological difficulty of deposition process are given.
Práva: Plný text práce je přístupný bez omezení.
Vyskytuje se v kolekcích:Diplomové práce / Theses (KFY)

Soubory připojené k záznamu:
Soubor Popis VelikostFormát 
Diplomova prace - Pavel Curda.pdfPlný text práce3,47 MBAdobe PDFZobrazit/otevřít
DP_Curda_vedouci.pdfPosudek vedoucího práce317,45 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
DP_Curda_oponent.pdfPosudek oponenta práce1,13 MBAdobe PDFZobrazit/otevřít
DP_Curda_obhajoba.pdfPrůběh obhajoby práce181,62 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít


Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam: http://hdl.handle.net/11025/41892

Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.