Title: Pulzní reaktivní magnetronové naprašování termochromických povlaků na bázi VO2
Authors: Čurda, Pavel
Advisor: Vlček Jaroslav, Prof. RNDr. CSc.
Referee: Kos Šimon, Doc. Mgr. Ph.D.
Issue Date: 2020
Publisher: Západočeská univerzita v Plzni
Document type: diplomová práce
URI: http://hdl.handle.net/11025/41892
Keywords: oxid vanadičitý;termochromické povlaky;antireflexní vrstvy;dopování wolframem;chytrá okna
Keywords in different language: vanadium dioxide;thermochromic coatings;antireflection layers;doping of tungsten;smart windows
Abstract: Tato práce je zaměřena na reaktivní depozici V1-xWxO2 termochromických povlaků pomocí vysokovýkonového pulzního magnetronového naprašování. Jsou uvedeny průmyslové nároky na termochromické povlaky a jejich možné dosažení využitím dopování dalších prvků a antireflexní vrstvy. Mezi často dopované prvky patří wolfram, který efektivně snižuje přechodovou teplotu. Antireflexní vrstvy slouží zejména k vylepšení optických vlastností. Popsána je také depoziční aparatura a analytické metody, jako jsou rentgenová difrakce, elipsometrie, spektrofotometrie a vlnově disperzní spektroskopie. V experimentální části byly připraveny vzorky ZrO2/V1-xWxO2/ZrO2. Je ukázán průběh transmitance a porovnání vlivu depozičních parametrů na technologickou náročnost procesu
Abstract in different language: This thesis deals with reactive deposition of V1-xWxO2 thermochromic films using High Power Impulse Magnetron Sputtering. The industrial requirements are given for the thermochromic films alongside with possibilities on how to reach them, like doping of other elements and antireflection coating. Tungsten is often used as co-doped element as an effective way how to decrease the transition temperature. Antireflection coating is used mainly to improve the optical properties. The description of deposition system is given as well as the description of analytical methods such as X-ray diffraction, ellipsometry, spectrophotometry and wavelength dispersive spectroscopy. Samples of ZrO2/V1-xWxO2/ZrO2 were prepared in experimental part. The transmittance and the comparison of the influence of deposition parameters on the technological difficulty of deposition process are given.
Rights: Plný text práce je přístupný bez omezení.
Appears in Collections:Diplomové práce / Theses (KFY)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Diplomova prace - Pavel Curda.pdfPlný text práce3,47 MBAdobe PDFView/Open
DP_Curda_vedouci.pdfPosudek vedoucího práce317,45 kBAdobe PDFView/Open
DP_Curda_oponent.pdfPosudek oponenta práce1,13 MBAdobe PDFView/Open
DP_Curda_obhajoba.pdfPrůběh obhajoby práce181,62 kBAdobe PDFView/Open


Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/11025/41892

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.